《科技日报》:光刻机治不了中国芯病 部分媒体自嗨

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在中国国产芯片发展进程备受关注的背景下,中国科学院宣布“超分辨光刻装备”通过验收的消息引发各界舆论关注热议。中国《科技日报》123日刊文抨击了对这条消息进行夸大解读的报道。文章指出,很多报道以“打破‘芯片荒’”、“国产光刻机大突破”为噱头,实际上属于接近谣言的“自嗨文”,是“漫无边际的瞎扯”。

中科院光电所超分辨光刻装备项目副总设计师杨勇(左)介绍装备整机(图源:VCG)

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项目组科研人员展示超分辨光刻装备用的超分辨镜头(图源:VCG)

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项目组科研人员展示通过超分辨光刻装备加工制作的功能器件(图源:VCG)

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项目组科研人员操作装备(图源:VCG)

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超分辨光刻装备整机主体部分(图源:VCG)

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北京时间1129日,中科院光电技术研究所宣布,该所承担的中国重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。

据《科技日报》1129日的报道介绍,这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机

据介绍,使用深紫外光源的光刻机是主流,其成像分辨力极限为34纳米,分辨率进一步提高要用多重曝光等技术,很昂贵。中科院光电所的新型光刻机,可在365纳米波长光源下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米,相当于1/17波长。

这条有关“紫外超分辨光刻装备”研制进展的消息公开后,中国多家媒体多以“芯片制造突破”为重点进行了报道,其中不乏“国产芯片白菜化在即”、“新式光刻机将打破‘芯片荒’”、“厉害了我的国”等语气强烈的解读。

123日,中国《科技日报》再度刊文,对上述“标题党”进行了抨击。

《科技日报》这篇文章题为《国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病!》,作者高博在文章中直言,作为旁听了中科院光电所此次验收会的一线报道者,“无法苟同一些漫无边际的瞎扯”。

文章首先误传信息的报道辟谣,指出,光刻机不只是用来制造芯片。中科院研制的新型光刻机的意义是用便宜光源实现较高的分辨率,以便用比较经济的方式实现一些特殊制造场景,而不是像一些网媒说的那样用来“光刻CPU”。

文章解释,为了节能和省硅料,芯片越做越小,顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,以刻下10纳米以下的线条。

不过,稳定的、大功率的极紫外光源很难造,不仅要耗费巨资,“一个要3,000万元人民币(约合435万美元)”,还需要严苛的工作环境和极端精密的光学、机械部件。因此,荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,创造了“一台卖1亿美金”的神话。

《科技日报》的文章介绍,十几年前,国际上开始对表面等离子体(Surface PlasmaSP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究,是较早出成果的一个团队。

据中科院的专家杨勇介绍,所谓SP,是“拿一块金属片和非金属片亲密接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻”。

文章同时指出,“这种电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比”。

文章介绍,几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机实现的,“至少以现在的技术不能”

《科技日报》披露,在中科院1129日举行的验收会上,有记者提问,“该光刻设备能不能刻芯片,打破国外垄断?”

中科院光电所的专家当时回应称,“紫外超分辨光刻装备”用于芯片需要攻克一系列技术难题,“距离还很遥远”。

文章总结,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机“不是一回事”,更无法用“弯道超车”来形容。

《科技日报》的文章指出,有关中国“超分辨光刻装备”的报道,“第一时间报出的信息还算中规中矩,但后来网媒添枝加叶,搞到离谱”。

文章抨击,有些传播者为吸引眼球、赚钱,最爱制造“自嗨文”和“吓尿体”,“听到国产科技成就先往大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价”。

文章最后强调,这种“科技报道”是满足虚荣心的伪新闻,“行家听了眉头一紧,避之大吉,也难怪许多科学家怕上新闻”。

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综编:宫叶

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